NVIDIA cuLitho 计算光刻使用 GPU 加速芯片设计

加速计算和人工智能领域的领导者 NVIDIA 宣布推出一款新软件工具 cuLitho，该工具有望加快芯片设计开发时间、减少数据中心的碳足迹并突破尖端半导体设计的极限。 NVIDIA的cuLitho软件库已被世界顶级芯片代工厂TSMC、Synopsys、芯片制造设备制造商ASML采用。

EDA 设计软件领域的领导者 Synopsys 也在权衡 cuLitho 的采用。 他们还强调了该技术可以为可能希望使用它的客户做些什么。 Aart de Geus 是 Synopsys 的董事长兼首席执行官。 他说，计算光刻（特别是光学邻近校正或 OPC）正在推动最先进芯片上计算工作负载的极限。 通过与 NVIDIA 合作并在 cuLitho 上运行 Synopsys 的 OPC 软件，我们将性能从几周显着缩短到几天！ 我们两家领先的公司继续在行业中取得惊人的进步。

使用 GPU 卸载和加速这些工作负载是一个好主意，因为半导体工厂节点变得越来越小，并且需要更精细的几何形状和更复杂的计算和光掩模图案。 随着摩尔定律的放缓，cuLitho 也有望加速其他尖端技术，例如高 NA EUV 光刻技术，这将有助于打印 2 纳米或更小芯片的复杂和微小特征。

CuLitho 是 NVIDIA 历史上的另一个关键点。 如果芯片制造行业采用这项技术，该公司的 DGX H100 GPU 平台和服务器将获得巨大的收入增长。 这类似于它在学术界分发 GPU 并引入其 CUDA 语言来加速 AI 时所取得的成就。 NVIDIA 在 AI 处理方面拥有明显的领先优势，并且可能也在为类似的半导体制造基础设施主导地位做准备。

来源和详细信息：
https://www.forbes.com/sites/davealtavilla/2023/03/21/nvidia-culitho-computational-lithography-massively-accelerates-chip-design-using-gpus/?sh=25195b2a4803